ISO/TR 17055:2002
Aciers — Dosage du silicium — Méthode par spectrométrie d'émission atomique avec plasma induit par haute fréquence
détails du produit
La méthode utilise un étalonnage reposant sur un ajustement très étroit de la matrice des solutions d'étalonnage avec celle de l'échantillon et sur un encadrement étroit des teneurs autour de la concentration approchée en silicium de l'échantillon à analyser. Les concentrations de tous les éléments de l'échantillon doivent donc être connues par approximation. Si les concentrations ne sont pas connues, l'échantillon doit être analysé selon une méthode semi-quantitative.