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ISO/TR 17055:2002
Aciers — Dosage du silicium — Méthode par spectrométrie d'émission atomique avec plasma induit par haute fréquence
SKU: iso_028510_135762
Publié par ISO
Année de publication 2002
1 Edition
9 pages
détails du produit
L'ISO/TR 17055 spécifie une méthode de dosage du silicium dans les aciers par spectrométrie d'émission avec plasma induit par haute fréquence. La méthode est applicable aux teneurs en silicium ayant une fraction massique comprise entre 0,02 % et 5 %.
La méthode utilise un étalonnage reposant sur un ajustement très étroit de la matrice des solutions d'étalonnage avec celle de l'échantillon et sur un encadrement étroit des teneurs autour de la concentration approchée en silicium de l'échantillon à analyser. Les concentrations de tous les éléments de l'échantillon doivent donc être connues par approximation. Si les concentrations ne sont pas connues, l'échantillon doit être analysé selon une méthode semi-quantitative.
La méthode utilise un étalonnage reposant sur un ajustement très étroit de la matrice des solutions d'étalonnage avec celle de l'échantillon et sur un encadrement étroit des teneurs autour de la concentration approchée en silicium de l'échantillon à analyser. Les concentrations de tous les éléments de l'échantillon doivent donc être connues par approximation. Si les concentrations ne sont pas connues, l'échantillon doit être analysé selon une méthode semi-quantitative.