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IEC 62047-26:2016
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 26: Description et méthodes de mesure pour structures de microtranchées et de microaiguille
SKU: iec_023998_052364
Publié par IEC
Année de publication 2016
1.0 Edition
57 pages
détails du produit
L'IEC 62047-26:2016 spécifie des descriptions de structures de tranchées et de structures d'aiguille à l'échelle micrométrique. En outre, elle donne des exemples de mesures de la géométrie des deux structures. Pour les structures de tranchées, la présente norme s'applique à des structures de profondeur comprise entre 1 µm et 100 µm, avec des parois et des tranchées de largeur comprise entre 5 µm et 150 µm et avec un rapport hauteur/largeur compris entre 0,006 7 et 20. Pour les structures d'aiguille, la norme s'applique à des structures à trois ou quatre faces dont la hauteur, la largeur horizontale et la largeur verticale sont supérieures ou égales à 2 µm, et dont les dimensions permettent de placer chaque structure dans un cube de 100 µm de côté. La présente norme s'applique à la conception structurelle de procédés MEMS et à leur appréciation géométrique.