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IEC 62226-2-1:2004
Exposition aux champs électriques ou magnétiques à basse et moyenne fréquence - Méthodes de calcul des densités de courant induit et des champs électriques induits dans le corps humain -Partie 2-1: Exposition à des champs magnétiques - Modèles 2D
SKU: iec_006606_033428
Publié par IEC
Année de publication 2004
1.0 Edition
113 pages
détails du produit
La présente partie de la CEI 62226 introduit le facteur de couplage K, pour permettre l'évaluation de l'exposition dans des situations d'expositions complexes, telles que les champs magnétiques non uniformes ou les champs électriques perturbés. Le facteur de couplage K peut avoir différentes interprétations physiques selon qu'il se réfère à l'exposition à un champ électrique ou un champ magnétique. L'objet de cette partie est de définir plus en détail ce facteur de couplage K, pour les cas de modèles simples de corps humain, exposé à des champs magnétiques non uniformes. Dans le cas présent, il est appelé facteur de couplage pour champ magnétique non uniforme.